説明
GE の製造標準と加工技術は 1980 年代から RUNAU Electronics に導入され、採用されています。完全な製造およびテスト条件は、米国市場の要件と完全に一致していました。RUNAU Electronics は、中国におけるサイリスタ製造のパイオニアとして、米国、欧州諸国、および世界のユーザーに国家パワー エレクトロニクス デバイスの技術を提供してきました。クライアントからは高度な資格と評価が得られ、パートナーにとってはより多くの大きな成果と価値が生まれました。
導入:
1.チップ
ルナウエレクトロニクス社製のサイリスタチップは焼結合金技術を採用しています。シリコンとモリブデンのウェハは、高真空および高温環境下で純アルミニウム (99.999%) によって合金化するために焼結されました。焼結特性の管理は、サイリスタの品質に影響を与える重要な要素です。RUNAU Electronicsのノウハウは、合金接合深さ、表面平坦性、合金キャビティの管理に加え、完全な拡散技術、リングサークルパターン、特殊なゲート構造を備えています。また、デバイスのキャリア寿命を短縮するために特別な処理が採用され、内部キャリア再結合速度が大幅に加速され、デバイスの逆回復電荷が減少し、その結果スイッチング速度が向上します。このような測定は、高速スイッチング特性、オン状態特性、およびサージ電流特性を最適化するために適用されました。サイリスタの性能と導通動作は信頼性が高く、効率的です。
2. カプセル化
モリブデンウエハと外部パッケージの平面度や平行度を厳密に管理することにより、チップとモリブデンウエハは外部パッケージと緊密かつ完全に一体化されます。これにより、サージ電流と大きな短絡電流に対する耐性が最適化されます。また、電子蒸着技術の測定により、シリコンウェーハ表面に厚いアルミニウム膜が形成され、モリブデン表面にメッキされたルテニウム層が熱疲労耐性を大幅に向上させ、高速スイッチサイリスタの耐用年数が大幅に延長されます。
技術仕様
パラメータ:
タイプ | IT(AV) A | TC ℃ | VDRM/VRRM V | ITSM @TVJIM&10ms A | I2t A2s | VTM @IT&TJ=25℃ V/A | tq μs | Tjm ℃ | Rjc ℃/W | Rcs ℃/W | F KN | m Kg | コード | |
最大1600Vの電圧 | ||||||||||||||
YC476 | 380 | 55 | 1200~1600 | 5320 | 1.4x105 | 2.90 | 1500 | 30 | 125 | 0.054 | 0.010 | 10 | 0.08 | T2A |
YC448 | 700 | 55 | 1200~1600 | 8400 | 3.5x105 | 2.90 | 2000年 | 35 | 125 | 0.039 | 0.008 | 15 | 0.26 | T5C |
最大2000Vの電圧 | ||||||||||||||
YC712 | 1000 | 55 | 1600~2000 | 14000 | 9.8x105 | 2.20 | 3000 | 55 | 125 | 0.022 | 0.005 | 25 | 0.46 | T8C |
YC770 | 2619 | 55 | 1600~2000 | 31400 | 4.9x106 | 1.55 | 2000年 | 70 | 125 | 0.011 | 0.003 | 35 | 1.5 | T13D |